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【新闻】技术突破让EUV有望成为下一代芯片加工技术矿泉水

发布时间:2020-10-19 04:24:46 阅读: 来源:录音笔厂家

<FONT size=2>&nbsp;&nbsp;&nbsp; 德国Xtreme Technologies GmbH日前宣称在提高EUV光源的功率输出上超越了目标,以寻求将甚EUV微影导入到芯片制造。Xtreme声称在原理实验中,从计划一开始的大约120瓦,研制出800瓦功率的EUV光源。对于量产中的EUV,功率输出到2010年左右必须要达到接近1千瓦。 </FONT></FONT>

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<FONT size=2></TD></TR></FONT>

<TBODY><FONT size=2></FONT></TBODY></TABLE>

<P><FONT size=2></FONT>&nbsp;</P>

<P><FONT size=2>  EUV微影可望成为下一代芯片加工技术,采用13纳米波长的流明,使芯片制造商能在集成电路上印刷32纳米及更小的特色尺寸。Xtreme是Lambda Physik AG和Jenoptik的合资企业。Lambda Physik的股份于2005年被日本的Ushio公司收购。为期36个月的该计划属于被称为More Moore的欧洲EUV计划的一部份,于2004年初激活,由荷兰的ASML公司负责。 </FONT></P>

<P><FONT size=2></FONT></FONT></P>

<P><FONT size=2>  尽管面临许多包括功率输出和光学在内的技术挑战,EUV仍然不断取得进展。Carl Zeiss SMT表示,已向ASML提供了首套针对EUV微影的光学系统。ASML正开发两套Alpha EUV微影工具,以在第二季分别提供给比利时的IMEC研究中心和纽约Albany大学纳米技术分校。</FONT></FONT></P>

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